哪些因素影响单晶生长界面，如何影响？

liu270133883 · 发表于 2011-5-18 10:17:03

直拉法拉制硅单晶时，单晶生长表面存在边界层，由于强度不同，晶体转动速度不同，边界层厚薄也不同。无论速度边界层δv，溶质边界层δc和温度边界层δT，它们的大小都受晶体转动速度影响，都正比于ω-1/2。速度边界层δv较大，在δv内一般为层流；溶质边界层δc小的多，在δc内，溶质输送主要是传层传热。熔体中的强迫对流和自然对流通过影响三个边界层的厚度，使溶质边界层δc内的溶质和温度边界层δT的温度发生波动而影响晶体生长界面的生长状态，影响生长界面的稳定性

zhang1237 · 发表于 2011-5-19 14:25:58

我认为最好的方法应该是，避免液面的横向梯度与纵向梯度的波动

hbzlk518 · 发表于 2011-6-8 14:54:17

液面的波动最关键。

yongsheng1981 · 发表于 2011-6-25 09:21:37

1、热场梯度波动！
2、抽气口堵塞。
3、机械部分。

wangzhichaocom · 发表于 2011-8-17 11:42:24

对流，机械振动，工艺

jzhq521 · 发表于 2011-9-16 12:40:01

哈哈哈哈啊哈哈

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[技术交流] 哪些因素影响单晶生长界面，如何影响？