硅片清洗改进

yanghui55315706 · 发表于 2008-12-10 15:31:41

我公司目前硅片清洗时间：HCl酸9min→水3min→HF酸3min→水9min
我想请教一下各位大哥有没有什么很好的改进方案，比如说怎样缩短酸的清洗时间，溶液浓度应该怎样配比。
谢谢啊

wlbcross123 · 发表于 2008-12-10 22:17:49

我们也想知道我们公司的流程及工艺，可惜，这是公司的机密

yanghui55315706 · 发表于 2008-12-12 03:16:35

不用这样吧？大哥

huaq · 发表于 2008-12-19 08:12:01

从没有看到过这样问别的公司的技术机密的，你也换个方式呢，真是的，以为别人都是笨蛋！

yiyi · 发表于 2008-12-19 10:22:28

没有酸的浓度有什么用啊????????????

:Q :Q :Q :Q

happy99 · 发表于 2009-1-9 14:49:30

不容易搞到

johnson · 发表于 2009-2-1 21:28:39

请吿诉工序，不同工序不一样

haizhifeng99 · 发表于 2009-5-24 15:01:23

你们那用的那里的清、洗机

yzyyl · 发表于 2009-6-6 09:50:40

你们为什么不用配好的硅片专用清洗剂呢

bingmaying · 发表于 2010-12-12 10:21:20

我们用的是专门的清洗剂，还不错

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[技术交流] 硅片清洗改进