多晶硅生产中的基本概念

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名 词 解 释
1. 半导体：
      介于导体和绝缘体之间的物质叫半导体。
2. 电阻率：
      是指一根长度和截面积都是一个单位的导体的电阻就叫电阻率。
特性：
1） 半导体的电阻率对温度的反应特别敏感；
2） 微量的杂质能显著的改变半导体的电阻率；
3） 适当的光照可使半导体的电阻率显著改变。
3.  N、P型半导体
N型半导体：
我们把主要依靠电子导电的半导体叫着电子型或N型半导体（施主杂质）。
  P型半导体：
      我们把主要依靠空穴导电的半导体叫着空穴型或P型半导体（受主杂质）。
4. 寿命：
      就是非平衡载流子载半导体中存在的时间。
5. 基磷：
      是指在多晶硅中所含杂质磷的真是浓度。
   基硼：
      是指在多晶硅中所含杂质硼的真是浓度。
6. 实收率：
      实际炉产量于所用三氯氢硅料中含硅量之比。
   沉积速度：
      是指在还原反应中单位时间内，沉积硅的重量。
   沉积速率：
      是指在还原反应中单位时间内、单位载体长度上沉积硅。
   沉积速率＝炉产量/总沉积时间×载体总长度
   单位：（克/小时.厘米、千克/小时.厘米）
   配比：
      是指还原过程中氢气和三氯氢硅的用量之比（克分子子比）。
7. 氧化夹层：
      在还原过程中，当原料混合气中混有水汽或氧时，则会发生水解及氧化，生成一层二氧化硅附着在硅棒上。在这种被氧化的硅棒上有继续沉积硅时，就形成了氧化夹层。
8. 硅油：
     硅油时一种大分之量的高分之硅卤化物（SiCL2）n.H2n,其中含硅25﹪，呈油状的物质，这种油状物质在还原过程中低温处产生的（低于300℃），往往沉积在炉壁、底盘、喷口、电极及观察口石英片等冷壁处。

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就这几个吗？？