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[分享] 多晶硅  还原气分离

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发表于 2010-11-1 19:09:52 | 显示全部楼层 |阅读模式
多晶硅  还原气分离
       多晶硅尾气各主要成分的体积分数分别为,HCl 30%;H2 64.2%;SIHCl3 5.4%;其他0.2%。多晶硅尾气均为可回收的产品或可循环使用的原料。对尾气进行有效的治理,不仅可以提高原料的利用率,还可以降低三废的排放量。为了合理治理尾气,必须根据尾气的特性、成分、压力等,选择适当的工艺流程和技术条件。

     利用以上几种组份的沸点差异、溶解度差异和在吸附剂上附着能力的差异,可以将以上几种组份完全分开。我公司开发了以下两种工艺技术处理多晶硅尾气:
分离方法:
1、  冷凝吸附法
     多晶硅尾气进入冷凝分离系统,增压后的合成气被降温,氯硅烷和氯化氢被分离出来,然后通过精馏将氯化氢和氢气分离,氢气进入吸附精制系统,得到高纯度的精制氢气。
     冷凝分离系统由制冷压缩机组、精馏塔和泵组成,吸附精制系统由吸附塔、加热器和冷却器组成。

2、  变压吸附法
     变压吸附系统由吸附塔、换热器和缓冲罐和组成。任意时刻都有吸附塔处于吸附状态,其余处于再生状态。通过氢气、氯化氢、氯硅烷在吸附剂表面上吸附能力的差异,将氢气、三氯氢硅、氯化氢分离开。吸附剂通过升温和降压的方式得到再生。再生结束,吸附塔又重新具备处理三氯氢硅尾气并生产氢气的能力。
     经过这一系列过程后吸附塔便完成了一个完整的“吸附-再生”循环,又为下一次吸附做好了准备。各吸附塔交替进行吸附、再生,即可实现气体的连续分离与提纯。
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