摘要 单晶硅太阳电池铝背场的欧姆接触影响其输出特性,采用新的工 艺技术降低电池的串联电阻势在必行。随着电池衬底厚度变得越来越 薄,传统的丝网印刷工艺使铝背场难以继续发挥其优势,探索硅片特 征参量与铝背场特性之间的内在联系也显得十分必要。 本文首先采用直流磁控溅射和丝网印刷技术分别在半成品单晶 硅电池的背面溅射铝膜和印刷铝浆料,然后对其进行快速热处理,制 备出了电池的铝背场。研究发现:当溅射铝膜厚度为3脚左右时, 经800OC快速热退火处理后,铝背场的表面方块电阻已经和工业上现 在常用的丝网印刷和烧结工艺制备出的铝背场的相当。相对传统的丝 网印刷工艺,溅射铝膜经800oC快速热处理后,铝晶粒更大,更加均 匀紧密且表面平整,有利于进一步降低铝背场欧姆接触电阻以及提高 对中长波太阳能的吸收。溅射工艺制备出的铝背场接触电阻随退火温 度升高呈下降趋势且溅射工艺的接触电阻比印刷工艺更小。当退火温 度不小于SO0oC时,溅射工艺的接触电阻基本趋于稳定,而印刷工艺 制备的铝背场欧姆接触电阻在gO0oC处理后接触电阻反而升高。 为进一步研究电池铝背场的特性,在模拟软件PCID中建立了 n争p十单晶硅太阳能电池的物理模型,仿真并系统地研究了单晶硅电 池衬底厚度、掺杂浓度和少子寿命以及铝背场的掺杂浓度分布梯度、 厚度及其平均掺杂浓度等参数跟铝背场特性之间的内在联系。仿真结 果表明,硅衬底厚度对n争p+电池输出特性的影响与衬底少子的扩散 长度相关。当衬底厚度跟其少子扩散长度相当时,随着衬底厚度的减 薄,铝背场对提高太阳能电池输出特性的作用越来越强。当少子扩散 长度与衬底厚度的比值为2.5一3时,具有铝背场结构的单晶硅电池可 获得最佳的输出特性。当p型硅衬底的掺杂浓度在5xl015一lx 10’7cm一3范围变化时(对应电阻率为0.2一3。·cm),具有铝背场结构的 单晶硅电池能获得良好的输出特性。具有铝背场结构电池的输出特性 几乎不依赖于铝背场掺杂浓度分布梯度,铝背场在一定程度上几乎屏 蔽了电池背表面复合速度对其输出特性的影响。 |