阳光工匠光伏论坛

 找回密码
 立即注册
查看: 2555|回复: 0

[非晶] LPCVD多晶硅薄膜缺陷的形成及消除措施

 关闭 [复制链接]
发表于 2011-3-3 23:43:36 | 显示全部楼层 |阅读模式
储能电站建设培训
未命名.jpg

LPCVD多晶硅薄膜缺陷的形成及消除措施.pdf

439.98 KB, 阅读权限: 10, 下载次数: 6

评分

参与人数 2下载券 +10 能量 +10 工匠币 +1 收起 理由
273531895 + 1 有用的资料
光谷子 + 10 + 10 鼓励无重复资料!

查看全部评分

您需要登录后才可以回帖 登录 | 立即注册

本版积分规则

手机版|Archiver|阳光工匠光伏论坛 ( 苏ICP备08005685号 )

GMT+8, 2024-11-24 00:39 , Processed in 1.062500 second(s), 8 queries , File On.

Powered by Discuz! X3.4

Copyright © 2001-2020, Tencent Cloud.

快速回复 返回顶部 返回列表